用于超大规模集成电路良率监控的扫描电子显微技术

报告摘要:

在集成电路制造中，缺陷检测设备和关键尺寸量测设备是良率监控过程中不可或缺的手段。随着集成电路制程工艺进步，扫描电子显微技术得益于高能电子高分辨率和电荷积累效应等特点，在集成电路制造环节中发挥着愈加重要的作用。本报告将基于扫描电子显微技术的原理、实现方法，聚焦该技术在超大规模集成电路制造产线良率监控中的应用，探讨该技术的发展前景和国产化进程。

主办单位:集成电路学院

报告人:孙伟强博士

孙伟强，现任东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司创新研究院院长。2008年毕业于北京大学电子学系，2013年毕业于北京大学物理电子所，2013-2015年于新加坡国立大学进行博士后研究工作。2016年入职中国科学院微电子所任副研究员。2019年全职加入东方晶源。作为课题负责人完成一项国家重大科技专项。主要研究方向为用于集成电路制造领域的电子束检测、量测核心成像技术，所主导研发的设备产品已在国内集成电路制造头部企业通过验证并量产，填补了此类设备的技术和市场空白。

报告时间:2023年9月28日9:00-10:00

报告地点:集成电路学院多功能报告厅北教22号楼401