陈传东 副教授
chencd@ldu.edu.cn
教育经历:
2021.09-2024.11:中国科学技术大学化学专业学习,获理学博士学位
2008.09-2011.04:大连工业大学化学工艺专业学习,获工学硕士学位
2002.09-2007.07:烟台大学生物技术专业学习,获理学学士学位
工作经历:
2025.07-至今:鲁东大学集成电路学院,副教授
2011.05-2025.06:包头稀土研究院稀土抛光材料研究室负责人/高级工程师
研究领域:
集成电路用纳米抛光材料及原子级表面平整技术
芯片用CMP材料制备、抛光机理及其产业化研究
主要学术兼职:
中国稀土学会稀土抛光材料与界表面调控加工技术专业委员会委员
国家新材料测试评价平台-稀土行业中心-技术专家(稀土抛光材料)
主要研究课题:
[1]半导体、高性能光学、蓝宝石用稀土抛光液关键制备技术研发,2019年内蒙古科技重大专项,经费360万元,2019.11-2023.12,主持
[2]高世代大尺寸显示玻璃基板用稀土抛光材料及器件关键技术研发,2021年内蒙古科技重大专项,经费799万元,2021.08-2025.12,主持
[3]稀土抛光材料关键技术研发,横向课题,经费570万元,2021.01-2022.12,主持
[4]高世代大尺寸显示玻璃基板用稀土抛光材料及器件关键技术研发,横向课题,经费350万元,2023.07-2025.12,主持
[5]低成本3D手机专用稀土抛光粉的研发及产业化,横向课题,经费140万元,2020.07-2021.06,主持
[6]超精密抛光材料研发,横向课题,经费100万元,2022.06-2024.05,重要参加人
[7]稀土铈基纳米结构材料的合成及对半导体抛光机理研究,内蒙古自然科学基金,经费7万元,2021.01-2023.12,重要参加人
研究生培养:
欢迎材料、物理、电子信息、机械等交叉学科学生报考。
主要学术论文:
[1]Chuandong Chen,Hongpeng You*,et al.Unveiling superior chemical mechanical polishing properties of a novel shell-core structure:Insights from an atomic-scale perspective.Applied Surface Science,2024,672:160845.
[2]Chuandong Chen,Wuping Liao*,Hongpeng You*,et al.Improvement of chemical mechanical polishing performance by introducing N–Si bond via external coating of cerium oxide with ZIF-8.Surfaces and Interfaces,2024,50:104488.
[3]Chuandong Chen,Wuping Liao*,Hongpeng You*,et al.Preparation of CeO2 particles via ionothermal synthesis and its application to chemical mechanical polishing.Colloids and Surfaces A:Physicochemical and Engineering Aspects,2024,694:134194.
[4]Chuandong Chen,Wuping Liao**,Hongpeng You*,et al.Novel ceria/graphene oxide composite abrasives for chemical mechanical polishing.Ceramics International,2024,50:26325–26333.
[5]Xiaoyue Yuan,Hong Lei*,Chuandong Chen.An ethylenediaminetetraacetic acid(EDTA)surface-functionalized CeO2 composite abrasives with the effective improvement of the removal rate on glass CMP.Ceramics International,2024,50:293–305.
[6]Xiaoyue Yuan,Chuandong Chen,Hong Lei*.Zefang Zhang.Synthesis,characterization of CeO2 ZIF-8 composite abrasives and their chemical mechanical polishing behavior on glass substrate.Ceramics International,2023,49:5189–5198.
授权发明专利:
[1]二氧化铈颗粒及其制备方法(ZL 2022 1 1127905.6)
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